詳細摘要: 勞厄單晶定向儀是為晶體定向和表征單晶設計的實時Laue相機
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詳細摘要: 臺式薄膜沉積系統(tǒng)為是模塊化的PVD系統(tǒng),為您的研究和實施應用提供了多種沉積選項
產(chǎn)品型號:FPKOR-HEX所在地:更新時間:2023-06-15 在線留言詳細摘要: 脈沖激光沉淀系統(tǒng)工作站PLD是氧化還原系統(tǒng),脈沖激光沉積(PLD)是一種用于薄膜沉積的多用途工藝,其主要優(yōu)點是將化學計量的材料從靶轉移到襯底
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產(chǎn)品型號:FPSUR-Beamline所在地:更新時間:2023-03-30 在線留言詳細摘要: 太陽能電池單面干法刻蝕機是專業(yè)為晶圓刻蝕設計的干法蝕刻機
產(chǎn)品型號:FPMIN-ADE-100所在地:更新時間:2023-03-30 在線留言詳細摘要: 磁控濺射系統(tǒng)MagSput是下一代磁控濺射沉積系統(tǒng),實用性腔,可擴展性高,且高度可靠,非常適合磁控濺射鍍膜科學研究
產(chǎn)品型號:FPTOR-MagSput所在地:更新時間:2023-03-30 在線留言詳細摘要: 感應耦合反應離子刻蝕系統(tǒng)ICPRIE由射頻電源感應產(chǎn)生等離子體,以產(chǎn)生各向異性蝕刻
產(chǎn)品型號:FPTOR-ICPRIE所在地:更新時間:2023-03-30 在線留言詳細摘要: 科研型原子層沉積系統(tǒng)ALD系芬蘭picosun公司R-200standard原子層沉積技術,具有的熱壁設計和單獨的入口,可實現(xiàn)無顆粒工藝,適用于晶圓,3D對象和...
產(chǎn)品型號:FPPIC-R-200-standard所在地:更新時間:2023-03-30 在線留言詳細摘要: 等離子體增強原子層沉積系統(tǒng)采用更大的腔室和等離子ALD模塊,獲得更好的原子層沉積效果
產(chǎn)品型號:FPCTE-Play所在地:更新時間:2023-03-30 在線留言詳細摘要: ALD系統(tǒng)AT410提供了用于3D樣品制備的共形導電薄膜解決方案,同時還提供了目前使用濺射/蒸發(fā)生長的傳統(tǒng)2D涂層
產(chǎn)品型號:FPANR-AT410所在地:更新時間:2023-03-30 在線留言詳細摘要: COVAP物理氣相沉積系統(tǒng)為許多工藝應用提供緊湊、經(jīng)濟、但仍然穩(wěn)健的PVD解決方案
產(chǎn)品型號:FPANG-COVAP所在地:更新時間:2023-03-30 在線留言詳細摘要: 多功能物理氣相沉積平臺可搭載濺射,熱蒸發(fā),電子束蒸發(fā),等離子體和離子束處理功能模塊,是多功能PVD系統(tǒng)
產(chǎn)品型號:FPANG-AMOD所在地:更新時間:2023-03-30 在線留言詳細摘要: 離子束沉積系統(tǒng)IBD采用真空沉積工藝,使用直接聚焦在濺射靶上的寬束離子源實現(xiàn)離子束沉積濺射鍍膜
產(chǎn)品型號:FPTOR-IBD所在地:更新時間:2023-03-30 在線留言詳細摘要: 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)EB-4P也是電子束沉積系統(tǒng),有四個容量不同的袖珍坩堝和各種電源
產(chǎn)品型號:FPTOR-EB-4P所在地:更新時間:2023-03-30 在線留言詳細摘要: 真空電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機CRTE直徑觀察口匹配雙級旋轉葉片泵的渦輪分子真空泵系統(tǒng)帶沉積控制器的石英晶體厚度傳感器帶數(shù)字顯示和讀數(shù)的全量程真空計最多四個帶獨立百葉窗...
產(chǎn)品型號:FPTOR-CRTE所在地:更新時間:2023-03-30 在線留言詳細摘要: 電子束-電阻熱蒸發(fā)復合鍍膜系統(tǒng)集合了電子束沉積鍍膜和電阻式熱蒸發(fā)鍍膜沉積功能
產(chǎn)品型號:FPTOR-EB4P所在地:更新時間:2023-03-30 在線留言詳細摘要: 反應離子刻蝕系統(tǒng)RIE600W是一款進口等離子體反應離子蝕刻機,用于各向同性蝕刻,蝕刻氧化物、氮化物、聚合物等薄膜
產(chǎn)品型號:FPTOR-RIE600W所在地:更新時間:2023-03-30 在線留言詳細摘要: 這款多功能緊湊型MBE系統(tǒng)具有三個腔室,適合用于А3В5,寬帶А2В6和А3N化合物(訂制版本)的生長,MBE系統(tǒng)設計吸收了這些材料系統(tǒng)中分子束外延的成果,非常...
產(chǎn)品型號:FPSEM-STE75所在地:更新時間:2021-08-16 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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